在科技越來越發(fā)達的當代社會，我們的生活已經離不開各類電子產品。手機、電腦、相機、智能電器等等，為我們的生活帶來了極大的便利。電子產品市場需求很大，那么作為電子產品核心的芯片生產也是一個龐大的產業(yè)。

　　在芯片生產過程中，反復清洗是必然工序。通過采用超純水反復清洗來去除零配件上殘留的細微分子，將遺留的超微細顆粒污染物、金屬殘留、有機物等會造成芯片污染的污染源清潔干凈，以避免后續(xù)生產加工工藝失敗、電學失效，從而降低芯片成品報廢概率，減少生產廠的損失。

　　工業(yè)超純水設備是超純水生產的優(yōu)良工具，近年來，該設備技術設計不斷完善，為“芯”發(fā)展帶來了極大的幫助。工業(yè)超純水設備嚴格執(zhí)行國家對超純水發(fā)布實施的《儀器分析用高純水規(guī)格及試驗方法》的標準，采用了雙級反滲透系統+EDI模塊的處理技術，由多介質過濾器、活性炭過濾器、精密過濾器等組成的預處理系統、反滲透系統、EDI系統、拋光混床等構成主要工藝段，生產超純水產量大、質量高。

　　工業(yè)超純水設備選材優(yōu)良，耐酸堿清洗、抗高污染，在生產超純水時脫鹽效果非常突出。EDI模塊處理不會產生酸堿廢液，后續(xù)工藝不需要額外再進行酸堿中和處理，提高了生產效率。工業(yè)超純水設備采用獨有的靶向離子交換系統針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除，并對礦物質和微量元素充分處理，只保留氫氧原子，運行不會有污染物析出，有效保證系統內部無死水。該設備自動化程度很高，能實現無人值守，操作簡便，為企業(yè)節(jié)約人力投入成本。

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　　編輯：新奇   技術：加菲