一場缺芯風波讓全球各國意識到掌握芯片產能的重要性,以前對半導體制造業(yè)沒有太大的重視,而這幾年美國,日本等國家相繼加快芯片制造業(yè)的發(fā)展,重中之重就是建設芯片工廠。中國近年來在基礎芯片上的發(fā)展速度極快,基本上已能夠達到自給自足的標準。同時,據(jù)數(shù)據(jù)顯示,中國預計在2020年至2024年期間建造31家大型芯片制造工廠,遠超過同期美國的12家。
芯片技術是為了探索新興領域和未知世界,為了給世界各國民眾帶來更舒適、更便捷的生活。一顆芯片在制造過程中,需要通過光刻機完成光刻作業(yè),在涂抹光刻膠的晶圓上,以類似照相機曝光的原理,把芯片線路圖進行復刻。其實,在芯片生產中除了以上提到的關鍵設備,還有重要的一個設備,就是超純水設備。光刻機在芯片制造中功不可沒,但是超純水設備也是芯片生產背后的大功臣。
為什么超純水設備在芯片生產中如此重要?
當半導體廠家生產和清洗半導體、芯片、電子產品的時候,都需要使用到電阻率為18兆歐以上的超純水,這樣的超純水幾乎不導電,不會影響電子產品的性能,同時水中幾乎不含金屬離子,不會對復雜芯片表面造成劃痕或者不可逆的影響。為此超純水設備已經成為電子半導體企業(yè)的基礎配置設施。
可以說,芯片行業(yè)用水的合格與否是產品能否以質量取勝的關鍵,芯片超純水設備可以為芯片行業(yè)提供高質量的超純水支持。
萊特萊德超純水設備結合膜分離技術,采用反滲透、EDI裝置結合混床模塊化設計工藝來制備超純水,其出水電阻率可達18 MΩ*cm(25℃),符合芯片制造用水要求,具有環(huán)保、經濟、發(fā)展?jié)摿薮蟮戎T多優(yōu)勢,為芯片提供了有效的產品質量保證。
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